美国论坛惊讶：中国未经许可怎么能研制光刻设

这个消息着实令人惊讶。 ——坦白说，光刻设备并不是简单的机器堆砌，而是多个技术门类的协同工程。 2010年代以来，国家和行业不断部署资金和项目，上海微电子及其子公司AMIES逐步承担起重大工程测试和系统集成任务。我个人认为这条路不是盲目追赶，而是先稳定中端需求，然后再进一步推动。这就像在铺地板之前打好坚实的地基一样。如果我们看一下总体情况，道路是明确的。最初它专注于90纳米工艺设备的研究。其目标首先是解决光源、光学模块、定位台和控制软件之间的协调问题。然后使用浸没式设计和多次曝光（多图案）逐渐推进至 28 纳米，弥补了单一分辨率的不足。从另一个角度来看，这是一种工程与成本并重的可行方法。 2023年限制高精度零部件出口固然会产生短期影响，但也有利于行业将资金和人才集中到相关重点领域，有利于行业整体调整。与当今许多事情一样，外部压力实际上正在推动内部整合和加速，这是令人悲伤的。从学术上来说，关键是要在多个要素上同时取得进展。 193 nm 氟化氩 (ArF) 激光器是干式和浸入式装配路径中使用的深紫外 (DUV) 光的主要来源。浸没式设计使用液体介质来增加数值孔径效应，从而提高成像能力。光学镜片的多层镀膜和材料优化提高了光的透射和反射效率。至于定位系统，w我们推出了磁悬浮平台，以提高抗振性和响应能力。在软件层面，我们利用实时纠错和人工智能算法来完成在线纠错。在我看来，这种软硬件协同策略是减少对单点极高机器精度依赖的务实举措。从长远来看，这有效吗？答案取决于不断迭代和人才汇集。仔细观察这些工程改进就会发现从小到大的一系列进展。初始模型的回报率约为60%；初始模型的执行率约为60%。在引入多重风险敞口并改善银行的光学和稳定性后，回报率已接近或超过 80%。优化的电路和热管理可将机器的总功耗降低约 15%。材料和工艺的改进提高了寿命关键部件的 Fe 降低约 20%。这些数字并非凭空而来，而是工程原型和早期生产反馈的结合。就我个人而言，我认为这些看似平凡的变化是将实验室结果转化为工业生产能力的重要步骤。相比之下，追逐极紫外 (EUV) 会导致更高的阈值和更长的返回周期。这一战略选择是有现实考虑的。在产业链和市场层面，事情变得更加复杂和现实。 AMIES在展会上展示了从光源到掩模和机械服务的完整能力。这对于当地工厂来说非常重要。本地化的备件和服务响应速度显着降低了机器停机的风险，尤其是在不确定的跨境物流环境中。这一优势尤为显着。如今，许多制造商更愿意选择可随时维护的设备，而不是直接维护的设备。持续的高端解决方案。在发展中市场，此类成本是可以管理和维持的。舒适的设备引起了人们的极大兴趣。这可能会影响全球中端市场的供需格局。还要注重人文和制度方面。专利申请数量的增加反映了有计划地促进研发活动。工业界、学术界和研究界之间的合作将使大学能够更快地将纳米技术和材料研究应用到工程领域。如果你想一想，这是一项长期投资，短期的起伏不会改变步伐。今天回过头来看，外部封锁虽然是一种威胁，但也需要本地的替代和控制。它也是度调整的催化剂。令人惊讶的是，这种合作最终可以带来更稳定的工程结果。从国际角度看，应对措施e 不统一。国外一些讨论已经从最初的怀疑转向认可，另一些则质疑其独特性和长期竞争力。现在衡量它的指标应该包括持续迭代能力、人才库和交付速度。向更先进节点的演进。不可否认，家用设备在特定和中档细分市场的广泛使用将在全球供应链中创造新的平衡点。高端仍将集中，但中端多元化趋势将更加明显。我们不会放弃技术前沿。量子辅助校准、更复杂的测量工具和极紫外（EUV）研究仍在取得进展。这是一条长期投资之路。我个人认为长期的竞争环境很大程度上取决于现有的中端能力能否稳步过渡到更高级的产品。未来几年的进程。历史告诉我们哪些策略有效，哪些策略需要调整。但目前，一种实用的分步工程路线正在一些工厂显示出可行性。最后要提到的是与实际实施相关的细节，从工作台阻尼调整到微调涂层配方，从软件参数的迭代校准到改进供应链协议。这些“小”举动的积累，一步步产生了今天的成果。如果你仔细想想，工程上的耐心和对细节的关注往往比临时的口号更有用。出乎意料的是，这项最初在一些论坛上被驳回的研究现在正在工厂工作场所中慢慢受到关注。目前，机器验证、生产规划和专利设计并行进行，表明这是一条现实的道路，需要长期投资。 特别提示：以上内容（含图片及视频（如有）由自有媒体平台“网易账号”用户上传发布。该平台仅提供信息存储服务。 注：以上内容（包括图片和视频，如有）由网易号用户上传发布，网易号是一个仅提供信息存储服务的社交媒体平台。